1 、电子光学系统

1.1 热场发射电子束源的加速电压可以达到 100kv ；

1.2 最小束斑 ≤ 5nm ；

1.3 束写范围大于 150mm × 150mm ；

1.4 成像放大倍数 ≥ 30 万倍。

2 、样品室

2.1 工作台行程范围： X ： 200mm ， Y ： 200mm ；

2.2 工作台位置控制精度： XY 方向 0.31nm 。

3 、 EBL 单元

3.1 高分辨电子束曝光的最小特征尺寸 ≤ 10nm ；扫描频率： ≥ 50MHz ；

3.2 步距增量 ≤ 1nm ，尺寸 20um ；

3.3 拼写 / 套刻精度 ≤ 25nm 。